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RST3100電化學(xué)工作站

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主要應(yīng)用領(lǐng)域:

1 研究電化學(xué)機(jī)理

2生物技術(shù)

3物質(zhì)的定性定量分析

4常規(guī)電化學(xué)測(cè)試

5納米科學(xué)研究

6傳感器研究

7金屬腐蝕研究

8電池研究

9電鍍研究

主要技術(shù)指標(biāo):

恒電位儀

恒電流儀                       

槽壓:±15V

靈敏度1×10-14A

電位控制范圍:±12.8V

電流控制范圍±250mA

電位上升時(shí)間﹤0.25微秒

輸入阻抗:>1013W//<10pF

脈沖電流:±250mA

設(shè)置脈沖電流數(shù):8個(gè)

D/A轉(zhuǎn)換速率18bit

A/D轉(zhuǎn)換速率24bit

電流測(cè)量分辨率﹤0.01pA

量程:5nA-250mA  9檔

電位更新速率:5MHz

CV的最小電位增量:0.1mV

CV 和LSV掃描速度0.1~10000mV/s

電位掃描時(shí)電位增量:0.1mV@200mV/mS

DPV和NPV脈沖寬度2~5000ms

SWV頻率1~100KHz

自動(dòng)和手動(dòng)電流、電位零位調(diào)整

環(huán)境溫度:5—400C

運(yùn)行時(shí)間:0--100,000s

通訊接口:RS232與USB互換

儀器尺寸:36*30*13

電位和電流測(cè)量低通濾波器,自動(dòng)和手動(dòng)設(shè)置


















主要測(cè)量技術(shù):

線性掃描伏安法 (LSV)

恒電位電解電流-時(shí)間曲線(I-T)

循環(huán)伏安法 (CV)

恒電位電解電量-時(shí)間曲線(Q-T)

線性掃描溶出伏安法 (LSV)

恒電位溶出電流-時(shí)間曲線(I-T)

階梯伏安法 (SCV)

恒電位溶出電量-時(shí)間曲線(Q-T)

階梯循環(huán)伏安法 (SCV)

單電位階躍計(jì)時(shí)電流法(I-T)

階梯溶出伏安法 (SCV)

多電位階躍計(jì)時(shí)電流法(I-T)

方波伏安法 (SWV)

單電位階躍計(jì)時(shí)電量法(Q-T)

方波循環(huán)伏安法 (SWV)

多電位階躍計(jì)時(shí)電量法(Q-T)

方波溶出伏安法 (SWV)

電位溶出E-T曲線

常規(guī)脈沖伏安法 (NPV)

開(kāi)路電勢(shì)E-T曲線

差示脈沖伏安法 (DPV)

單電流階躍計(jì)時(shí)電位法

差示脈沖溶出伏安法 (DPV)

多電流階躍計(jì)時(shí)電位法

差示常規(guī)脈沖伏安法 (DNPV)

控制電流E-T曲線

塔菲爾圖 (TAFEL)

 







 










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